Студопедия
Новини освіти і науки:
МАРК РЕГНЕРУС ДОСЛІДЖЕННЯ: Наскільки відрізняються діти, які виросли в одностатевих союзах


РЕЗОЛЮЦІЯ: Громадського обговорення навчальної програми статевого виховання


ЧОМУ ФОНД ОЛЕНИ ПІНЧУК І МОЗ УКРАЇНИ ПРОПАГУЮТЬ "СЕКСУАЛЬНІ УРОКИ"


ЕКЗИСТЕНЦІЙНО-ПСИХОЛОГІЧНІ ОСНОВИ ПОРУШЕННЯ СТАТЕВОЇ ІДЕНТИЧНОСТІ ПІДЛІТКІВ


Батьківський, громадянський рух в Україні закликає МОН зупинити тотальну сексуалізацію дітей і підлітків


Відкрите звернення Міністру освіти й науки України - Гриневич Лілії Михайлівні


Представництво українського жіноцтва в ООН: низький рівень культури спілкування в соціальних мережах


Гендерна антидискримінаційна експертиза може зробити нас моральними рабами


ЛІВИЙ МАРКСИЗМ У НОВИХ ПІДРУЧНИКАХ ДЛЯ ШКОЛЯРІВ


ВІДКРИТА ЗАЯВА на підтримку позиції Ганни Турчинової та права кожної людини на свободу думки, світогляду та вираження поглядів



Алгоритм розрахунку температури поверхні чипу ІМС процесора

Лекція №5

Для розрахунку температури поверхні чипу необхідно у визначеній загальній тепловій схемі (Рис. 5) знайти значення теплових опорів окремих теплових елементів. Далі шляхом еквівалентних перетворень схеми привести до виду:

Де R - сумарний тепловий опір системи охолодження поверхні чипу;

θ1 – температура поверхні чипу, яку необхідно визначити;

Р – потужність, яка виділяється на поверхні чипу.

На основі схеми Рис. 6. складаємо рівняння:

θ1θ2 = Р · R , звідси

θ1 = Р · R + θ2

Виникає питання, від чого залежить потужність, що виділяється на поверхні чипу в сучасних цифрових ІМС. Відомо, що сучасні цифрові ІМС побудовані на основі комплементарних метало-окисел напівпровідникових (КМНО) структур, в яких основні витрати енергії визначаються витратами на перезарядку паразитних електричних ємностей, що визначаються елементами діелектричної ізоляції елементів самих структур.

Розглянемо крайній випадок. Електричну ємність визначимо площею чипу, наприклад S = 1 см2, та товщиною діелектрика, наприклад d = 0,1 мкм, матеріал діелектрика SiO2, ε ≈ 4, то:

Тактова частота ft = 2 ГГц = 2·109 Гц;

Напруга переминання U = 1В.

Відомо, що енергія, яка необхідна на заряд конденсатора С від джерела постійного струму з напругою U складе CU2; причому половину цієї енергії CU2/2 витрачається на схемі заряду ємності, половина накопичується на конденсаторі, яка після витрачається на елементах електричної схеми при розряді конденсатора.

При наведених даних потужність Р, що буде виділятись на чипі наближено в крайньому випадку можна визначити:

Р = ft ·CU2 = 2·10-9·3,5·10-8 ≈ 70 Вт

Наведене показує, що енергії, пов’язаної з пере зарядом паразитних ємностей чипу суттєво залежить від рівня технології (проектно технологічних норм – товщини діелектрика), тактової частоти та розмірів чипу. І для швидкодіючих чипів вона складає не менше одиниці ват.

Визначення Rч кондукцією від поверхні чипа до його основи.

де hч – товщина;

Sч – площа;

λч – коефіцієнт теплопровідності матеріалу чипу (кремнію λSi = 150 [Вт/м°С]).

Приймаємо hч = 0,7 мм; Sч = 1 см2, тоді

Визначення Rкр теплового опору кришки від зони її з’єднання з основою до протилежної поверхні:

де hк – товщина; Sч – площа; λч – коефіцієнт теплопровідності матеріалу кришки (корпусу).

Приймаємо hк = 2 мм; Sч = 25 см2; λк = 8 [Вт/м°С], матеріал 22ХС – кераміка на основі окислів Al2O3, тоді:

Визначення теплового опору шару Rш між поверхнею кришки та поверхнею радіатора.

Тут можна розглядати різні варіанти передачі теплової енергії між поверхнями кришки та радіатора:

ü шар може бути у вигляді тонкого газового або рідинного прошарку, який забезпечує передачу тепла між поверхнями конвекцією;

ü шар може бути у вигляді тонкого прошарку теплопровідної пасти у вигляді гелю, який між поверхнями передає тепло кондукцією.

Для першого випадку тепловий опір конвекцією, нехтуючи товщиною шару і тепловим опором його кондукцією, тепловий опір можна визначити:

де Sш – площа шару;

αкш, αкш – коефіцієнти тепловіддачі конвекцією кришка–шар (αкш), та шар–радіатор (αкш).

Враховуючи малу товщину шару, та високий при цьому градієнт температури в шарі, то можуть створюватися умови передачі теплової енергії від природних до примусових конвекцією як для газу, так і для рідини.

Тому коефіцієнти тепловіддачі αкш і αкш можуть знаходитися в діапазоні значень:

- для газового шару 2÷150 [Вт/м°С];

- для шару рідини 200÷3000 [Вт/м°С].

Якщо обмежимося можливими реальними значеннями для газового шару 30÷100 [Вт/м°С] та шару рідини 300÷1000 [Вт/м°С], то:

Наведені значення опорів Rш рід та Rш газу показують можливі реально значення Rш коли має місце якісний тепловий контакт між радіатором і корпусом ІМС, або він втрачений в процесі експлуатації.

Тепловий опір радіатора R р. Обмежимося тільки опором конвекцією між поверхнею радіатора та середовищем (опором кондукцією по матеріалу радіатора знехтуємо).

де Sр – площа поверхні радіатора, що віддає тепло;

αр – коефіцієнти тепловіддачі.

Приймаємо αр = 10÷100 Вт/м2·°С; Sр = 50÷300 см2, тоді:

Визначення теплового опору основи Rос від зони її з’єднання з кришкою до протилежної сторони (зони виводів):

де hос – товщина; Sк – площа основи корпусу; λос – коефіцієнт теплопровідності матеріалу основи корпусу.

Приймаємо hос = 2 мм; Sк = 25 см2; λос = 8 Вт/м°С, тоді:

Тепловий опір виводів Rв:

де hв – довжина; Sв – площа перетину; Nв – число виводів; λв – коефіцієнт теплопровідності матеріалу виводів.

Приймаємо Nв = 400 одиниць; hв = 1 мм; Sв = 1 мм2; λв = 120 Вт/м°С, тоді:

Тепловий опір ділянки контактної зони друкованої плати Rдп 11 кондукцією з однією на протилежну її сторону:

де hдп – довжина; Sз – площа зони контактів друкованої плати; λдп – коефіцієнт теплопровідності плати.

Приймаємо hдп = 3 мм; Sз = 25 см2; λдп = 10 Вт/м°С, тоді:

Тепловий опір конвекцією контактної зони друкованої плати Rдп 12:

де αдп 12 – коефіцієнти тепловіддачі ділянки контактної зони друкованої плати;

Sз – площа зони;

Приймаємо αдп 12 = 5 Вт/м2°С, тоді:

Тепловий опір кондукцією ділянки друкованої плати Rдп 21 від зони контактів до зовнішнього периметру ділянки друкованої плати, який відноситься до ІМС.

де Dпв – ефективний діаметр зони контактів;

Dпз – ефективний діаметр ділянки плати ІМС.

Dпз = ,

де Sn – площа плати, що відноситься до ІМС.

Приймаємо Dпв/Dпв = 2, тоді:

Тепловий опір ділянки друкованої плати конвекцією за межами ділянки контактної зони:

де αдп 22 – коефіцієнти тепловіддачі ділянки за межами контактної зони;

Sп – площа ділянки друкованої плати, що відноситься до ІМС.

Приймаємо αдп 22 = 10÷100 Вт/м2·°С; Sп = 100 см2, тоді:

Приведемо еквівалентну схему з визначеними величинами теплових опорів.

θ1 = θ2 + Р · R = 20 + (10 ÷ 100) = 30 ÷ 120 °С


Читайте також:

  1. Rete-алгоритм
  2. Алгоритм
  3. Алгоритм
  4. Алгоритм 1.
  5. Алгоритм RLE
  6. Алгоритм безпосередньої заміни
  7. Алгоритм Берлекемпа-Мессі
  8. Алгоритм відшукання оптимального плану.
  9. Алгоритм Дейкстри.
  10. Алгоритм Деккера.
  11. Алгоритм Деккера.
  12. Алгоритм діагностики при травмах живота.




Переглядів: 1140

<== попередня сторінка | наступна сторінка ==>
Приклад системи охолодження мікропроцесора | КОНЦЕПЦІЇ ПОХОДЖЕННЯ УКРАЇНСЬКОЇ КУЛЬТУРИ

Не знайшли потрібну інформацію? Скористайтесь пошуком google:

  

© studopedia.com.ua При використанні або копіюванні матеріалів пряме посилання на сайт обов'язкове.


Генерація сторінки за: 0.015 сек.